分散染料耐日晒牢度与分子结构关系解析
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分散染料耐日晒牢度与分子结构关系解析
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AI 综述
分散染料的耐日晒牢度与其分子结构有关：在偶氮基邻位引入—Cl、—CN、—Br等吸电子基，可降低氮原子电子云密度，从而提高耐光稳定性。 按该解析，分散橙S-4RL（C.I.分散橙30）以1%（o.w.f）染涤纶时，耐日晒牢度可达6～7级（ISO 105－B02蓝标）；分散红E-3B（C.I.分散红60）以1%（o.w.f）染涤纶时达7级。
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最新进展10月9日 05:20
从结构角度看分散染料耐日晒牢度的解析报道时间线
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10月9日
- 纺织印染整从结构角度看分散染料耐日晒牢度的解析
分散染料的耐日晒牢度与其分子结构有关，偶氮基邻位引入吸电子基（—Cl、—CN、—Br 等）可降低氮原子电子云密度，提高耐光稳定性。例如分散橙 S-4RL（C.I.分散橙30）用量 1%（o.w.f）染涤纶时耐日晒牢度可达 6～7 级（ISO 105－B02 蓝标），分散红 E-3B（C.I.分散红60）1%（o.w.f）染涤纶时达 7 级。
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